首页> 外文OA文献 >The over-step coalescence of carbon atoms on copper surface in the CVD growth of graphene: density functional calculations

【2h】

The over-step coalescence of carbon atoms on copper surface in the CVD growth of graphene: density functional calculations

机译：石墨烯CVD生长过程中铜表面碳原子的过度聚结：密度泛函计算

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Yingfeng Li; Meicheng Li; TianSheng Gu; Fan Bai; Yue Yu; Trevor Mwenya; Yangxin Yu;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2013
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. The over-step coalescence of carbon atoms on copper surface in the CVD growth of graphene: density functional calculations [J] . Yingfeng Li, Meicheng Li, TianSheng Gu, AIP Advances . 2013,第5期

机译：石墨烯的CVD生长过程中铜表面碳原子的超步聚结：密度泛函计算
2. A first principles study on the CVD graphene growth on copper surfaces: A carbon atom incorporation to graphene edges [J] . Tajima Nobuo, Kaneko Tomoaki, Nara Jun, Surface Science . 2016,第NOVa期

机译：关于铜表面上CVD石墨烯生长的第一个原理研究：碳原子结合到石墨烯边缘
3. An important atomic process in the CVD growth of graphene: Sinking and up-floating of carbon atom on copper surface [J] . Yingfeng Li, Meicheng Li, TianSheng Gu, Applied Surface Science . 2013,第nova1期

机译：石墨烯CVD生长中的重要原子过程：铜表面碳原子的下沉和上浮
4. Study of Band Gap Engineering In Graphene Based Electrode Materials By Density Functional Calculations: A Search For High Performance Graphene Based Devices [C] . K Vagdevi, B. Jyothirmai, V Radhika Devi, International Conference on Manufacturing, Material Science and Engineering . 2019

机译：密度函数计算基于石墨烯电极材料带隙工程的研究：一种寻找高性能石墨烯基的装置
5. Ab Initio Density Functional Study of the Adsorption of Potassium Atoms and Clusters on Graphene and Carbon Nanotubes. [D] . Lugo-Solis, Alejandro. 2011

机译：从头密度函数研究石墨烯和碳纳米管上钾原子和团簇的吸附。
6. Controlled atom transfer radical polymerization of MMA onto the surface of high-density functionalized graphene oxide [O] . Mukesh Kumar, Jin Suk Chung, Seung Hyun Hur 2014

机译：MMA在高密度官能化氧化石墨烯表面上的受控原子转移自由基聚合
7. The over-step coalescence of carbon atoms on copper surface in the CVD growth of graphene: density functional calculations [O] . Yingfeng Li, Meicheng Li, TianSheng Gu, 2013

机译：石墨烯CVD生长过程中铜表面碳原子的过度聚结：密度泛函计算

The over-step coalescence of carbon atoms on copper surface in the CVD growth of graphene: density functional calculations

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅